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B 支持膜 產品展示
多孔氮化硅膜窗口(Holy Silicon Nitride TEM Grids)
多孔氮化硅膜窗口(Holy Silicon Nitride TEM Grids)
多孔氮化硅膜窗口(陣列孔薄膜),3mm直徑的外框架(其厚200um),內有0.5*0.5mm大小的窗口!我們使用先進的MEMS技術,生產出的多孔氮化硅膜(微陣列孔膜),膜厚度200 nm,多孔膜區(qū)域達0.45*0.45mm大小,膜耐酸、堿和溶劑,耐受高溫實驗(高達1000°C)。
超薄連續(xù)碳膜
超薄連續(xù)碳膜
沒有方華膜(Formvar)支撐,在蕾絲碳膜上鍍一層更薄的碳膜(厚度小于3nm),是可用的最薄純碳支持膜
GIG純碳陣列微柵膜
GIG純碳陣列微柵膜
該產品與C-FLAT類似:微孔尺寸相同、排列一致,支持膜純凈、無任何有機層(參考以下圖片),國產中的精品
X-ray應用薄膜窗口(X-Ray Windows)
X-ray應用薄膜窗口(X-Ray Windows)
有兩種薄膜,低應力lpcvd氮化硅膜具很強機械強度,適合高溫和差壓環(huán)境;G-FLAT?氧化硅膜平坦無褶皺,非常適合x射線顯微鏡和需要無氮氣背景的分析。
純硅窗口Pure Silicon Windows
純硅窗口Pure Silicon Windows
純硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm,利用濺射沉積純硅,允許對含氮和/或碳的樣品進行元素分析。單晶純硅具有<1-0-0>取向,制作35 nm的薄膜,用于衍射研究和其它需要從單晶薄膜中獲得均勻的背景應用,。無孔硅薄膜輕微起皺,大約100微米間距有5微米或更少的偏轉,這對于高分辨率成像來說通常是沒有問題的。納米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔,孔徑一般在10-60納米范圍。
氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids
氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids
氮化硅TEM窗口在惡劣的實驗室條件下表現(xiàn)良好,硅材料的框架100μm厚,適合標準的3mm支架和大多數(shù)雙傾斜樣品臺,氮化硅窗口裝在透明的凝膠盒中
方華膜(Formvar Film)
方華膜(Formvar Film)
單純的一層方華樹脂膜,厚度可以選擇,標準厚度~10nm。如果需要其他厚度的方華膜,請來電咨詢,還有可選厚度,5-6nm,15-20nm,25-50nm;載網的材質也可以選擇,比如鎳網、金網等等;載網的孔型也可以選擇,比如方孔、六邊孔,發(fā)現(xiàn)者載網等等
一氧化硅支持膜(Silicon Monoxide Film)
一氧化硅支持膜(Silicon Monoxide Film)
載網上附純一氧化硅膜,膜大約15~30nm的厚度。還有一種是載網上先鍍方華膜,方華膜上再穩(wěn)定一層極薄的SiO膜,SiO膜較碳膜具有更高的親水性。
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