有兩種薄膜,低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度,適合高溫和差壓環(huán)境;G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺,非常適合x射線顯微鏡和需要無氮?dú)獗尘暗姆治觥_@些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學(xué)技術(shù)的理想襯底,經(jīng)過等離子清洗,無有機(jī)污染。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場(chǎng)到場(chǎng)可變性和高x射線透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口(G-FLAT™ SiO X-Ray Window),適合生物成像研究,具有玻璃狀親水表面。外框硅材質(zhì),外框大小5*5mm,框厚310µm,膜厚度300nm。無褶皺,與超高真空(UHV)應(yīng)用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口,外框大小5*5mm,框厚320µm,200 MP 低應(yīng)力無孔氮化硅。
產(chǎn)品信息:
貨號(hào) |
產(chǎn)品描述 |
窗口(Sq.) |
膜厚 |
規(guī)格 |
76042-10 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10個(gè)/盒 |
76042-11 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
300nm |
10個(gè)/盒 |
76042-12 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
50nm |
10個(gè)/盒 |
76042-13 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
50nm |
10個(gè)/盒 |
76042-14 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10個(gè)/盒 |
76042-15 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
100nm |
10個(gè)/盒 |
76042-16 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1500µm |
200nm |
10個(gè)/盒 |
76042-17 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
2500µm |
200nm |
10個(gè)/盒 |
電話 010-52571502 010-51248120 郵箱 hedebio@163.com |